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“芯片表面微波磁场高分辨测量关键技术”项目科技成果评价会在京举行

来源: 中国日报网
2020-01-13 18:49 
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1 月 12 日,“芯片表面微波磁场高分辨测量关键技术”项目科技成果评价会在中国电子科学研究院科研楼举行。评价会由中国民营科技促进会秘书长周迎主持召开;由中国工程院院士刘永坚任评价专家委员会主任,中国工程院院士陆军、苏东林任副主任,中国电子科技集团有限公司首席科学家年夫顺、中国电子科学研究院研究员陈竹梅等10位专家任委员共同组成评价委员会。中国民营科技促进会常务副秘书长苏川、促进会产业技术研究院常务副院长王静鸿,委托评价单位代表及嘉宾共30余人参加了评价会。

评价会上,南京邮电大学教授、南京昆腾科技有限公司创始人杜关祥博士就“芯片表面微波磁场高分辨测量关键技术”项目作了详细讲解和汇报。评价委员会认真听取了项目的技术总结报告,审查了相关资料,并经质询和讨论,形成了鉴定意见。

杜关祥博士介绍说,“芯片表面微波磁场高分辨测量关键技术”项目技术复杂,难度很大,在锥形光纤亚微米级金刚石NV色心探头和芯片电磁近场的高分辨高速成像方法等方面有重大创新,拥有自主知识产权,核心技术自主可控,整体水平达到国际先进水平,其中锥形光纤亚微米级金刚石NV色心探头属于国际首创。项目成果已在多家企业应用,具有良好的经济效益,推广应用前景广阔。

南京邮电大学教授、南京昆腾科技有限公司创始人 杜关祥博士

评价委员会认为,该科技成果面向芯片表面微波磁场测量要求,提出了扫描式和成像式两种测量新方法,研制了锥形光纤亚微米级金刚石NV色心探头和芯片表面微波磁场高分辨高速成像系统,实现了芯片表面微波磁场高分辨测量,对提高芯片设计和测试能力具有重要意义。 尤其锥形光纤亚微米级金刚石NV色心探头属于国际首创,这点更是意义很大。

据介绍,南京昆腾科技有限公司面向全球集成电路产业的重大需求,立足源创技术,打造有核心竞争力的专业芯片测试和分析平台,助力芯片设计企业改进芯片设计,缩短芯片制造周期,降低开发成本。公司落地在江苏南京国家级江北集成电路产业中心,在行业产业链中定位于芯片高分辨精密测量解决方案提供商,公司目前已经研发出高分辨光纤近场探头、芯片表面电流高分辨成像仪和芯片表面微波磁场显微镜产品,现已在北京大学、南京大学、东南大学、兰州大学、中兴微电子、华为技术等行业高端用户得到应用。

据组织方介绍,中国民营科技促进会是“官民产学研金”和社会各界组成的全国性一级社会团体,在科学技术部领导下和国家有关部委指导下开展工作。改革开放40年来,民营企业蓬勃发展,民营经济从小到大,由弱变强,在稳定增长、促进创新、增加就业、改善民生等方面发挥了重要作用,成为推动经济社会发展的重要力量。

评价会结束后,杜关祥博士感慨说,“我们今天收获巨大。院士专家是站在新形势下国家科技创新战略,全球视野的高度帮助我们把脉,并给我的团队提出了不少建设性和操作性很强的意见和建议。院士专家为我们下一步推广这一源创技术的产业应用,建设好重点应用示范,加速芯片电磁兼容和芯片失效分析的产品化推进,建立芯片表面电磁场高分辨测试技术的国内和国际工业标准等方面都给出了宝贵意见。我们一定不忘初心,牢记使命,科技报国。促进会这个平台搭建的真好!”

据了解,随着我国深入实施创新驱动发展战略,中国民营科技促进会在产学研结合,新技术新成果研发、转化,科技创新服务,引领产业结构调整等方面发挥了良好的桥梁和纽带作用。

“我们搭建起国家院士专家、高校及民营企业、社会各届、资本市场、国内国际应用市场相互互动的沟通交流平台,对科技成果进行评估论证,让发明专利、科技研发、成果应用与金融资本和应用市场快速结合,大大促进民营科技企业迅速、持续、稳定、健康发展。同时,我们也是积极响应国家科技成果转化政策,在打通政策‘最后一公里’的过程中起到良好积极的沟通平台作用。” 中国民营科技促进会产业技术研究院负责人介绍说。

科技是经济增长的发动机,是提高综合国力的主要驱动力。促进科技成果转化、加速科技成果产业化,已经成为世界各国科技政策的新趋势。全国政协委员、长江学者创新团队带头人祝连庆曾表示“提高科技成果转化率,需要政府、高校和研发机构,以及企业等各方同时发力,唯有如此才能研发出更适合实体经济发展的高科技成果,并进一步转化成高附加值的产品。”

“十九大报告中就鼓励支持民营经济发展作出了许多新的重大论述,为我国民营经济持续健康发展指明了方向。”促进会产业技术研究院负责人介绍说。“比如最近我们就正在抓紧启动‘中国民营科技促进会民营科技发展贡献奖’的评选工作。这个奖项是经科技部和国家科技奖励工作办公室批准设立(国科奖社证字第0080号),现已成为全国民营科技企业的重要奖项。这也为我们支持和服务民营企业,为民营企业多做实事多做好事,激发各类市场主体活力,积极践行十九大精神的具体举措。”

(中国日报北京记者站)

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